汎銓表示,除既有材料分析(MA)及AI晶片分析業務委案需求熱轉外,汎銓第二成長曲線亦已正式啟動,積極搶攻矽光子檢測與設備市場商機,已正式成立矽光子工程處,並完成3台自主研發之「MSS HG」矽光子分析設備建置,其核心「光損偵測裝置」技術已取得台灣、日本及美國發明專利,奠定汎銓於矽光子檢測分析與設備領域之高度競爭優勢。
汎銓此次參加2026電子生產製造設備展,旗下「MSS HG」矽光子測試平台獲市場高度關注與熱烈回響,顯示市場對於矽光子測試與分析解決方案需求正快速升溫。該平台聚焦三大應用場景,包括光學失效定位、少量多樣工程研發測試,以及客戶端導入之in-house研發/分析設備,汎銓秉持領先業界的檢測分析技術與自主研發設備,提供客戶從前期失效定位、中期工程測試,一路到後期內部設備導入的完整解決方案,有望乘著矽光子產業強勁東風,創造未來更為亮麗的營運前景。
展望未來營運,汎銓持審慎樂觀看法。看好在「埃米世代製程材料分析」、「AI客戶專區深化合作」、「矽光子量測服務與設備銷售雙軌發展」,以及「全球四大半導體產業區域據點布局」等四大成長動能驅動下,挹注未來營運動能持續放大可期。隨著海外營運據點分析產能逐步釋出、AI與矽光子相關需求持續升溫,汎銓營運可望自今年起進入長期成長軌道,朝向「年年成長」甚至「年年豐收」的營運目標穩步邁進。


