盧怡尹10月、緩刑3年、付保護管束，需向公庫支付1百萬加上6場法治教育；東京威力公司罰金1億5千萬元、緩刑3年、需付台積電1億元、公庫5千萬元。
本案五名被告中，吳秉駿、戈一平在今年2月分別以300萬元、200萬元交保，陳力銘及陳韋傑仍在看守所羈押中，盧怡尹未被羈押，法院先前命吳秉駿、戈一平兩人須到庭聆判，顯見案件重要性。
起訴書指出，陳力銘曾任台積電12廠之良率部門工程師，離職後至台積電半導體製造設備供應商東京威力科創股份有限公司行銷部門任職，在明知台積電各項機密資訊保護措施以及要求廠商遵守保密約定的情況下，竟多次利用與吳秉駿、戈一平及另名廖姓同事的情誼，要求提供業務上可接觸到的台積電國家核心關鍵技術營業秘密檔案或營業秘密，供其拍攝重製，以利爭取台積電2奈米製程蝕刻站點供應量產機台的資格。
台積電發現異常後，著手內部調查，並向高檢署提告，檢方經訊問陳、吳、戈等3人及相關證人後，分析相關電磁紀錄及證物，認定3嫌犯罪事證明確，分別以違反《國家安全法》國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪、《營業秘密法》意圖域外使用而竊取營業秘密罪、竊取營業秘密罪等罪嫌起訴3人。
檢方認為，本案涉及我國產業命脈之國家核心關鍵技術，嚴重威脅半導體產業國際競爭力，3名被告犯罪情節重大，因此請求法院從重量刑，陳力銘犯行被分別求處3至8年不等有期徒刑，應執行有期徒刑14年；吳秉駿各項犯行遭求處4至7年有期徒刑，應執行有期徒刑9年；戈一平則遭求處有期徒刑7年。
陳力銘到案後向檢調供出另一名共犯工程師陳韋傑，陳韋傑涉嫌拍攝、提供「14奈米以下製程之IC製造技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術」等營業秘密資料給陳力銘，去年11月被追加起訴並求刑8年8月。
事情曝光後，東京威力高階主管盧怡尹在公司雲端硬碟中發現相關機密資料，竟私自刪除檔案，涉嫌湮滅刑事證據，遭起訴並求刑1年。
檢方也分案偵辦東京威力公司涉案部分，去年12月偵結起訴，起訴書指出東京威力公司依法對陳力銘負有監督責任，卻未善盡防止違法行為，應負法律規定之法人刑事責任。故檢方依照《國家安全法》、《營業秘密法》等規定，對東京威力公司提起公訴，並分別求處罰金4千萬元、8百萬元、4千萬元、4千萬元，並請法院定應執行刑罰金1億2千萬元。
