另據了解，一審遭重判的叛將陳力銘等3人，聲請上訴狀已送達智慧財產及商業法院，靜待二審開庭審理。
檢方起訴指出，曾任職台積電12廠良率部門的陳力銘，因家庭經濟壓力沉重，跳槽至東京威力科創。當時新東家在測試台積電2奈米設備量產時碰壁，陳力銘為了爭取訂單，竟找來昔日具師徒關係的在職台積電工程師吳秉駿、戈一平，利用遠端連線內部資料庫偷拍12張2奈米製程機密照；他另找前同事陳韋傑，用手機偷拍數十張原料與技術資料，企圖協助新東家量產。案發後，東京威力行銷經理盧怡尹更涉嫌刪除雲端硬碟資料滅證。
一審判決認為，2奈米技術攸關我國半導體核心競爭力，不容寬貸。除主嫌陳力銘遭重判10年外，共犯陳韋傑、吳秉駿、戈一平分別被判處6年、3年及2年徒刑；滅證的主管盧怡尹則被判刑10月、緩刑3年並向公庫支付100萬元。
目前高檢署與東京威力均已決定不上訴，因此東京威力涉案部分將定讞；陳力銘、陳韋傑與盧怡尹3人則已提出上訴，進入二審審理。
